廠牌/型號：Bruker / D8 Advance

儀器簡介：
配備銅靶或鈷靶Ｘ光光源、繞射儀、水平式樣品載台(五軸精確控制Centric Eulerian Cradle)及閃爍計數器，可取得試樣粉末繞射或試片反射式極圖繞射、薄膜繞射、搖幌曲線繞射及相關繞射資料，具備研判晶相種類、結構或組構特性之相關分析軟體。 

對外服務之分析項目：
1. 岩石、礦物或其他固體材料粉末之繞射。
2.薄膜低掠角繞射（Thin film grazing incident diffraction）。
3.岩石、礦物或其他固體塊材反射式極圖繞射（Texture analysis）。
4. 其他需求或狀況，請先洽詢聯絡人或逕洽實驗室主持人。

對外服務項目之注意事項：
一、使用者聯繫實驗室技術人員或主持人評估可行性、試樣或試片處理方式、實施方式及時程。
二、使用者原則上須自行妥善製備試樣或試片，試片之一般性條件如下述四項，惟不同種類之樣品或不同分析需求會有不同限制條件，務請聯繫聯絡人確定詳細試片規範，以免無法獲致合理品質資料，或無法進行分析。
　1. 粉末樣品須預先由使用者妥善處理、選樣及研磨（粒徑均勻且小於50 μm較佳），乾燥粉末使用量以能壓實平整裝填樣品載具圓形凹槽為原則，視樣品種類，約0.5–1.0克，使用者自行確認樣品代表性。
　2. 使用者自行製作之粉末塗抹或沉降乾燥試片、塊材或薄膜試片尺寸須能裝載固定於水平式樣品載台，水平至少一側須達5–6 cm尺寸，厚度不能超過7 cm，底部宜平整；或是試片須能平整固定於樣品載具1吋圓形凹槽。
　3. 不接受具揮發性、腐蝕性或污染性之樣品。
三、使用者自備可燒錄光碟（儲存資料）。
四、擬以委託分析方式取得資料之使用者，須明確提供所需繞射資料種類及繞射條件參數，以免產生不符所需之資料。
五、原則上使用者須自行判讀演繹資料。
六、其他需求或特殊情況，請先洽詢聯絡人或逕洽實驗室主持人。